台积电国内工厂爆发:南京厂将继续扩建
据台湾新闻媒体,半导体材料大佬台积电南京厂现阶段月产能已达成预计2万片总体目标,而以前依计划增加南京厂产能,2020年月产能已由1.五万片扩升至2万片,工艺技术性以12nm及16nm为主导。台积电决策起动南京厂第二期改建,并以28nm工艺为主导。针对这一信息,台积电表明,现阶段南京厂未有进一步提产实际计划。
台积电中国工厂暴发:南京厂将再次改建
台积电财务报告显示信息,台积电南京厂上年即转亏为盈,全年度盈利台币12.89亿人民币(折合rmb 2.97 亿人民币)。伴随着产能经营规模扩张,2020年前3季盈利扩升至台币91.29亿人民币(折合rmb21亿人民币)。
先前也有新闻媒体称,为了更好地维持领跑,台积电早已提交订单购买了最少13台ASML的Twinscan NXE EUV光刻机,可能在二零二一年全年度交货,但是实际的交货和安裝时刻表尚不清楚。另外,2020年台积电具体要求的总数可能是达到16到17台EUV光刻机。
现阶段,台积电应用ASML的Twinscan NXE EUV光刻机在其N7 及其N5连接点上生产制造处理芯片,但在未来好多个一季度,该企业将提升N6(事实上将在今年第四季度或二零二一年第一季度进到HVM)及其一样具备EUV层的N5P加工工艺。台积电对EUV专用工具的要求已经提升是由于其技术性愈来愈繁杂,大量地区必须应用极紫外线刻专用工具解决。台积电的N7 应用EUV来解决数最多4层,以降低生产制造高宽比繁杂的电源电路时多图案设计技术性的应用。