据台湾新闻媒体，半导体材料大佬台积电南京厂现阶段月产能已达成预计2万片总体目标，而以前依计划增加南京厂产能，2020年月产能已由1.五万片扩升至2万片，工艺技术性以12nm及16nm为主导。台积电决策起动南京厂第二期改建，并以28nm工艺为主导。针对这一信息，台积电表明，现阶段南京厂未有进一步提产实际计划。
台积电中国工厂暴发：南京厂将再次改建
台积电财务报告显示信息，台积电南京厂上年即转亏为盈，全年度盈利台币12.89亿人民币（折合rmb 2.97 亿人民币）。伴随着产能经营规模扩张，2020年前3季盈利扩升至台币91.29亿人民币（折合rmb21亿人民币）。
先前也有新闻媒体称，为了更好地维持领跑，台积电早已提交订单购买了最少13台ASML的Twinscan NXE EUV光刻机，可能在二零二一年全年度交货，但是实际的交货和安裝时刻表尚不清楚。另外，2020年台积电具体要求的总数可能是达到16到17台EUV光刻机。
现阶段，台积电应用ASML的Twinscan NXE EUV光刻机在其N7 及其N5连接点上生产制造处理芯片，但在未来好多个一季度，该企业将提升N6（事实上将在今年第四季度或二零二一年第一季度进到HVM）及其一样具备EUV层的N5P加工工艺。台积电对EUV专用工具的要求已经提升是由于其技术性愈来愈繁杂，大量地区必须应用极紫外线刻专用工具解决。台积电的N7 应用EUV来解决数最多4层，以降低生产制造高宽比繁杂的电源电路时多图案设计技术性的应用。