SK海力士：将积极为中国引进光刻机
SK海力士CEO Seok-hee Lee（李锡熙）最近和记者沟通交流了无锡市海力士半导体材料工厂的有关状况。
在其中有关EUV光刻机的难题，令人关心。李锡熙表明，正与美国协作，进度优良。EUV光刻技术早已在首尔当地的DRAM生产线上运用，中国工厂也有充裕的時间供交涉沟通交流。
据了解SK海力士在无锡市工厂引入的光刻机将用以生产10nm DRAM集成ic，也就是第四代运行内存。
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